日本限制韩国EUV工艺关键材料,三星电子领先地位将受威胁

  • 日期:10-05
  • 点击:(1768)


最近,日韩之间的贸易战愈演愈烈。日本宣布,氟基聚酰亚胺(Fluorine Polyimide),半导体制造中的核心材料光致抗蚀剂和高纯度氟化氢(Eatching Gas)在出口到韩国时将不会得到优惠待遇。而且出口商每次发货都必须获得许可,并且大约需要90天才能获得许可。

日方对此非常坚决。一些分析人士指出,由日本市场主导的Mask Blank也很可能成为下一个受害者。三星EUV项目可能会受到影响。

根据《韩联社》,在日本可能添加的限制包括集成电路(IC),电源管理IC(PMIC),光刻设备,离子注入机,晶圆,掩模版基板等。值得注意的是,EUV工艺不能替代光致抗蚀剂,而且日本公司在晶圆和掩模版基板市场上占有很高的市场份额。日本的运动将直接影响三星的EUV程序。

目前,三星正处于与台积电竞争的5nm工艺的关键时刻,这无疑是对三星电子的重大打击。三星已经获得了NVIDIA GPU7nm芯片的订单。最近,Nvidia出来澄清它不是三星的独家OEM,而是同时使用三星和台积电的7nm工艺。

据报道,接近三星的消息人士称,三星的一些研究计划已受到影响。三星必须暂时中止与EUV光刻相关的芯片开发,以确保关键的光刻胶供应得到保证。